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近年來，實(shí)驗(yàn)室建設(shè)的重點(diǎn)正在從“補(bǔ)齊設(shè)備"轉(zhuǎn)向“完善能力結(jié)構(gòu)"。二維觀察已難以滿足復(fù)雜材料研究需求；單一表征手段越來越難解釋多尺度問題；單純檢測能力，也無法支撐高水平的材料設(shè)計(jì)與工藝優(yōu)化。對于高校科研和企業(yè)研發(fā)部門而言，儀器選型不僅影響實(shí)驗(yàn)效率，更直接影響研究深度與技術(shù)轉(zhuǎn)化節(jié)奏。本文將圍繞四大技術(shù)模塊，梳理 2026 年值得關(guān)注的實(shí)驗(yàn)室能力方向與選型思路。

PART ONE  顯微成像

顯微成像技術(shù)已經(jīng)不再只是展示材料表面形貌的工具，而是理解微觀結(jié)構(gòu)與功能關(guān)系的基礎(chǔ)平臺。

01  Phenom 飛納臺式掃描電鏡

2025年，飛納電鏡產(chǎn)品全面升級迭代，持續(xù)為中國 2500+ 用戶帶來更智能、更高效、更可靠的顯微分析體驗(yàn)！覆蓋數(shù)百所高校、中科院等科研院所、政府機(jī)構(gòu)，以及新能源、生命科學(xué)等多個工業(yè)領(lǐng)域。應(yīng)用研究涵蓋金屬與合金、電池、地質(zhì)與考古、高分子材料、靜電紡絲、陶瓷與復(fù)合材料、生物醫(yī)學(xué)、微生物等多個前沿與交叉學(xué)科。

飛納電鏡采用臺式一體化設(shè)計(jì)，具備防震能力，對安裝環(huán)境要求低。操作流程高度簡化，適配不同經(jīng)驗(yàn)層級的用戶。同時，飛納電鏡支持拓展 EBL 功能，自主編程功能，原位拉伸/壓縮功能，原位加熱/冷凍功能，樣品真空轉(zhuǎn)移等，亦可進(jìn)行定制化滿足科研與工業(yè)應(yīng)用的多樣化需求。

值得一提的是，Phenom AI 智能掃描電鏡，支持全流程自動成像和自由編程（PPI）功能（適配所有飛納型號），為微觀世界的探索帶來了自由度和無限可能。

02  Technoorg Linda 離子研磨儀

Technoorg Linda SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡（SEM）和電子背散射衍射（EBSD）樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品，并為 EBSD 分析制備無損表面。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 氬離子束無應(yīng)力處理樣品

• 定位精準(zhǔn)：可實(shí)現(xiàn) ±1 微米

• 離子槍能量：0-16kV

• 超大樣品腔室：可容納直徑 50mm 樣品

• 制冷設(shè)計(jì)：液氮 LN₂ 制冷

• 可選配真空轉(zhuǎn)移功能

03  Neoscan 高分辨顯微CT

NEOSCAN 臺式顯微 CT 經(jīng)過四十年技術(shù)沉淀，以精密機(jī)械結(jié)構(gòu)與智能圖像重建算法為核心，在臺式機(jī)體積下實(shí)現(xiàn)高達(dá) 40nm 的像素分辨率，高性能三維無損成像的特性受到眾多高校科研與企業(yè)用戶青睞！它無需切割或制備即可直接觀察材料和生物樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)，一次掃描即可獲得形貌、裂紋、孔隙、界面及定量信息。

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 性能出眾：臺式納米 CT，最小體素尺寸高達(dá) 40nm !

• 為大尺寸、高密度物體設(shè)計(jì)，輕松掃描 32*54 cm 超大樣品！

• 臺式設(shè)計(jì)，不挑安裝環(huán)境，操作簡單，便于設(shè)備安裝使用

• 閉管透射式 X 射線管設(shè)計(jì)，無需抽真空，無需定期換燈絲，設(shè)備免維護(hù)

• 軟件免費(fèi)，整合了掃描、重構(gòu)、計(jì)算、輸出模型等多種功能

• 選配件豐富，可選配力學(xué)樣品臺、溫控樣品臺、自動進(jìn)樣系統(tǒng)、XRF成分分析系統(tǒng)等

04  原子力顯微鏡系列

1  AFM-SEM 聯(lián)用

2  ICSPI 原子力顯微鏡

ICSPI 在原子力顯微鏡系統(tǒng)設(shè)計(jì)、探針控制與納米級表征技術(shù)方面擁有深厚的技術(shù)積累。其 AFM 產(chǎn)品以高穩(wěn)定性、高重復(fù)性及靈活的模塊化架構(gòu)著稱，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件表征、薄膜與納米材料研究、精密表面形貌分析等領(lǐng)域。

PART TWO  透射電鏡原位分析

材料性能往往來源于動態(tài)過程。DENSsolutions 原位樣品桿，使研究者可以在加熱、電場或氣氛環(huán)境下觀察結(jié)構(gòu)變化，配合 Technoorg Linda TEM 精修設(shè)備，可以提高樣品質(zhì)量與實(shí)驗(yàn)穩(wěn)定性。原位技術(shù)的價值，在于讓研究更貼近真實(shí)工作狀態(tài)。

01  DENSsolutions TEM 原位樣品桿

DENSsolutions 作為原位 TEM 領(lǐng)域的品牌，憑借高穩(wěn)定性芯片與完整的加熱、熱電、氣相、液相和冷凍解決方案，為原位實(shí)驗(yàn)提供高可重復(fù)性與定量控制，目前已應(yīng)用于國內(nèi) 100 余所高校和科研院所。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 研發(fā)實(shí)力強(qiáng)，技術(shù)團(tuán)隊(duì)來自代爾夫特理工大學(xué)

• 高精度動態(tài)環(huán)境控制，引入氣體、液體、熱、電、冷凍等環(huán)境刺激

• 模塊化設(shè)計(jì)，配置靈活，便于清理、替換以及跨平臺表征

• 芯片獨(dú)特性，MEMS 設(shè)計(jì)是其核心技術(shù)

• 在動態(tài)實(shí)驗(yàn)條件下保持高分辨率成像并且允許實(shí)時觀察和分析

02Technoorg Linda TEM 樣品制備

Technoorg Linda 的離子減薄儀、離子精修儀配備了超高能離子槍和低能離子槍，通過控制離子束的能量和角度，可對樣品進(jìn)行快速研磨及表面精細(xì)加工和最終拋光。

PART Thre  清潔度

在鋰電、汽車、鋼鐵與半導(dǎo)體等制造領(lǐng)域，微米級顆粒與非金屬夾雜物已成為影響可靠性、良率與產(chǎn)品壽命的關(guān)鍵因素。清潔度不再只是檢測項(xiàng)目，而是企業(yè)核心競爭力的重要組成部分。

鋰電清潔度

鋰電池中的銅、鋅、鐵等金屬異物可能導(dǎo)致嚴(yán)重的安全事故，對金屬異物的管控也已成為行業(yè)共識。飛納電鏡 ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析系統(tǒng)，基于掃描電鏡 + 能譜法可自動識別、分析和統(tǒng)計(jì)銅、鋅、鐵等金屬異物，進(jìn)而幫助分析異物來源，改善生產(chǎn)條件，減少安全事故的發(fā)生。 

汽車清潔度

PART Four  原子制造

近年來，材料性能的突破越來越依賴界面調(diào)控與納米尺度結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。傳統(tǒng)宏觀工藝已難以滿足對精度與一致性的要求，研究與研發(fā)的重心逐漸下沉至原子與納米尺度。復(fù)納原子制造產(chǎn)品線聚焦新型原子層沉積（ALD）與納米沉積打印技術(shù)方案，賦能微納產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展。

ALD 產(chǎn)品線

01  Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)

表面包覆作為提升粉末物理化學(xué)性能的重要手段，長期以來一直缺乏有效的精密手段。與傳統(tǒng)的表面改性不同，PALD 是真正可以實(shí)現(xiàn)原子級/分子層級控制精度的粉末涂層技術(shù)，并保持良好的共形性。Forge Nano 經(jīng)過多年研發(fā)，已經(jīng)開發(fā)出低成本的規(guī)模化粉末原子層沉積包覆技術(shù)，目前已廣泛應(yīng)用于鋰電、催化、金屬、制藥等領(lǐng)域。

納米沉積打印產(chǎn)品線

01  VSParticle 干法納米沉積打印系統(tǒng)

VSParticle 是一家納米材料制造創(chuàng)新企業(yè)，憑借火花燒蝕與干法沉積平臺，實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量、可定制化的納米結(jié)構(gòu)材料的規(guī)模化制備。其技術(shù)已廣泛應(yīng)用于能源存儲、傳感器、催化等領(lǐng)域。

02  Tera Print 桌面式無掩模蘸筆光刻/打印系統(tǒng)

Tera Print 桌面光刻系統(tǒng)采用光束筆光刻技術(shù)（BPL），高度并行、無需光刻掩模，它克服了衍射極限，能夠在平方厘米區(qū)域內(nèi)快速創(chuàng)建任意圖案，特征分辨率低至 250nm。作為桌面納米光刻打印機(jī)，比以往更快更經(jīng)濟(jì)地原型制造和生產(chǎn)納米結(jié)構(gòu)表面與器件。結(jié)合了 DMD 無掩模光刻/聚束筆光刻/打印的新一代桌面式微納制造系統(tǒng)，可將線寬控制低至 250nm。

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 精密多波長光學(xué)器件：高功率均勻照明，紫外至可見光自由定制

• 亞衍射分辨率 < 250 納米，微米級圖案 >1.25 微米輕松實(shí)現(xiàn)

• 智能數(shù)字光掩模：任意圖案化，納米至厘米級設(shè)計(jì)即改即用

• 高效自動對準(zhǔn)：快速重復(fù)定位，實(shí)現(xiàn)均勻圖案表面

• 輕松控制：直觀操作，幾小時即可掌握全程納米加工